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解決方案

制糖廠通過(guò)糖結(jié)晶控制工藝提升盈利能力

2023/2/1 15:32:47

  泰國(guó)一家制糖廠利用維薩拉 K?PATENTS® SeedMaster SM-3 優(yōu)化了批次真空結(jié)晶煮糖、晶體質(zhì)量和產(chǎn)量,并從中獲益。該制糖廠的工藝控制解決方案由 Contrologic 公司提供和調(diào)試。

  自動(dòng)化控制的目標(biāo)是減少批次煮糖過(guò)程中對(duì)蒸汽和水的使用,同時(shí)通過(guò)嚴(yán)格規(guī)范控制晶體粒度分布 (CV) 和平均粒度 (MA) 來(lái)提升糖的質(zhì)量。此目標(biāo)可以通過(guò)基于實(shí)時(shí)過(guò)飽和度控制的完全自動(dòng)化控制策略實(shí)現(xiàn)。

  例如,通過(guò)對(duì)比策略實(shí)施前后的產(chǎn)量、能耗和晶體質(zhì)量,我們發(fā)現(xiàn),在實(shí)施之前,85 m3 的煮糖罐(參閱圖 1)每批煮糖會(huì)用掉 7 m3 的水。

  

  圖 1. 真空煮糖罐 (85 m3)。

  在實(shí)施之前,水用于去除新的、不需要的細(xì)微晶體。引入工藝控制解決方案不僅徹底消除了對(duì)用水的需要,還將蒸汽消耗減少了 25%,同時(shí)將產(chǎn)量提高了約 1%。

 

  圖 2:糖漿進(jìn)料閥。

  為什么要基于過(guò)飽和度控制煮糖呢?

  高質(zhì)量糖的生產(chǎn)依賴于晶體生長(zhǎng),而過(guò)飽和正是促進(jìn)晶體生長(zhǎng)的原動(dòng)力。結(jié)晶速度是多個(gè)參數(shù)的函數(shù)。過(guò)飽和度的定義為:母液的實(shí)際糖濃度與相同溫度下的飽和糖濃度的比值。

  過(guò)飽和度有一個(gè)范圍,在這個(gè)范圍內(nèi),糖晶體均勻而廣泛地生長(zhǎng),達(dá)到所需的晶體粒度。在此范圍之外,晶體將停止生長(zhǎng),甚至可能自然熔化或開(kāi)始形成新晶體,產(chǎn)生需要回溶再加工的粉晶和黏晶。這會(huì)帶來(lái)重大影響,因?yàn)檫@種情形會(huì)導(dǎo)致時(shí)間和能源的浪費(fèi)、增加生產(chǎn)成本和水的消耗,并減少糖的有效產(chǎn)量。

  為了制定能夠解決這些難題的基于過(guò)飽和度的控制解決方案,工廠為煮糖罐配備了維薩拉 K-PATENTS® SeedMaster SM-3 系統(tǒng),該系統(tǒng)能夠?yàn)檫^(guò)飽和度計(jì)算提供實(shí)時(shí)數(shù)據(jù)。SeedMaster 為糖結(jié)晶應(yīng)用場(chǎng)景而設(shè)計(jì)。該系統(tǒng)由在線折光儀和多參數(shù)監(jiān)測(cè)設(shè)備組成,可提供糖結(jié)晶所需的參數(shù),并能夠支持全自動(dòng)控制解決方案的實(shí)施。

  客戶為何選擇維薩拉 SeedMaster?

  提高產(chǎn)品質(zhì)量和一致性

  糖的質(zhì)量非常高,并且不同批次之間的質(zhì)量一致。通過(guò)優(yōu)化,最終糖蜜中的蔗糖量得到了減少,與此同時(shí),CV/MA 得到了改善。

  通過(guò)優(yōu)化原材料和蒸汽消耗節(jié)省大量成本

  原材料消耗的減少可實(shí)現(xiàn)運(yùn)營(yíng)成本的節(jié)約,但成本節(jié)約源自蒸汽消耗的減少。在使用 SeedMaster 實(shí)施自動(dòng)化控制策略之前,這家泰國(guó)制糖廠每鍋煮糖要消耗 39.4 噸蒸汽,而實(shí)施后,每鍋糖的蒸汽消耗量降至 29.5 噸。

  由于制糖工藝的每一步都需要水,所以這是累積數(shù)字。糖廠產(chǎn)生用于加工的蒸汽,并將未用完的蒸汽以電力的形式出售給電網(wǎng)。對(duì)生產(chǎn)工藝的控制和優(yōu)化使工廠能夠向電網(wǎng)出售更多電力。

  減少偽晶再加工

  糖晶體粒度一致時(shí),就減少了與偽晶再加工相關(guān)的時(shí)間和成本。

  減少人工操作任務(wù)

  SeedMaster SM-3 實(shí)現(xiàn)了自動(dòng)化過(guò)飽和度控制,意味著操作員不再需要花費(fèi)時(shí)間采樣并執(zhí)行其它手動(dòng)任務(wù)。

  工藝控制需要以下控制過(guò)程及儀器:

  • 使用數(shù)字在線折光儀控制濃度
  • 絕對(duì)壓力控制
  • 液面控制
  • 微波密度計(jì)

  儀器和 PID 控制器的三個(gè)控制級(jí)別

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