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    全球工控內(nèi)存領(lǐng)導(dǎo)品牌宇瞻科技為滿足工業(yè)計(jì)算機(jī)產(chǎn)業(yè)面對(duì)嚴(yán)苛環(huán)境的需求，持續(xù)為客戶研發(fā)具前瞻性的產(chǎn)品與技術(shù)，考慮日益受污染環(huán)境所影響的電子組件硫化問(wèn)題，宇瞻科技開(kāi)發(fā)全球第一款適用于含硫環(huán)境的抗硫化系列內(nèi)存，日前已廣受肯定并陸續(xù)取得多國(guó)專(zhuān)利，全新抗硫化內(nèi)存不僅能有效解決環(huán)境污染產(chǎn)生的硫化腐蝕現(xiàn)象，提升系統(tǒng)整體使用壽命，亦能滿足系統(tǒng)在惡劣環(huán)境下長(zhǎng)時(shí)間穩(wěn)定運(yùn)作的需求，確保產(chǎn)品可靠性與耐用度。

    內(nèi)存模塊的隱形殺手-電阻硫化

   不同于一般標(biāo)準(zhǔn)型內(nèi)存模塊相對(duì)穩(wěn)定的應(yīng)用環(huán)境，由于工業(yè)計(jì)算機(jī)常需于高溫或高污染等環(huán)境下運(yùn)作，因此工控內(nèi)存產(chǎn)品需因應(yīng)各種不同特殊的應(yīng)用環(huán)境予以客制化設(shè)計(jì)，宇瞻科技藉由抗硫化技術(shù)強(qiáng)化內(nèi)存模塊抵抗高污染環(huán)境下硫化腐蝕問(wèn)題，可大幅提升工業(yè)計(jì)算機(jī)整體系統(tǒng)之穩(wěn)定性。高污染環(huán)境中濃度超標(biāo)的懸浮微粒含有大量硫化氣體，易與電阻中作為導(dǎo)體的電極層的銀材料化合產(chǎn)生絕緣體硫化銀，導(dǎo)致電阻阻值增加，甚至形成開(kāi)路而失效，尤以汽車(chē)電子、基地臺(tái)通訊等設(shè)備因常暴露于污染大氣中，出現(xiàn)硫化腐蝕現(xiàn)象影響更甚，宇瞻科技全新抗硫化內(nèi)存模塊絕佳的抗硫化特色，有效解決電阻硫化所產(chǎn)生的產(chǎn)品可靠度與耐用度問(wèn)題。

    抗硫化技術(shù)與寬溫支持，解決高溫加速電阻硫化問(wèn)題

    工業(yè)計(jì)算機(jī)長(zhǎng)期曝露于高溫及高濃度的硫化物氣體中，高溫會(huì)加速電阻硫化的形成，而硫化速度快會(huì)縮短產(chǎn)品使用期限。宇瞻科技開(kāi)發(fā)全球第一款工規(guī)寬溫抗硫化內(nèi)存模塊，結(jié)合抗硫化并支持寬溫，在高污染的含硫環(huán)境與嚴(yán)苛的極端氣候下仍能穩(wěn)定運(yùn)作。宇瞻科技獨(dú)家專(zhuān)利抗硫化內(nèi)存模塊特別適用于嵌入式工業(yè)計(jì)算機(jī)系統(tǒng)，滿足IPC產(chǎn)業(yè)在嚴(yán)苛環(huán)境下長(zhǎng)時(shí)間穩(wěn)定運(yùn)作的需求。

    革命性的創(chuàng)新技術(shù)應(yīng)用，未來(lái)IPC產(chǎn)業(yè)主流規(guī)范

   電子產(chǎn)品硫化的問(wèn)題目前逐漸受到重視，尤其對(duì)需要高可靠度與長(zhǎng)時(shí)間運(yùn)作的工業(yè)計(jì)算機(jī)產(chǎn)品更加重要，抗硫化的技術(shù)勢(shì)必成為未來(lái)IPC產(chǎn)業(yè)的主流規(guī)范，宇瞻科技根據(jù)抗硫化專(zhuān)利技術(shù)所制造的抗硫化內(nèi)存除有寬溫支持，為了讓訊號(hào)傳輸更穩(wěn)定，專(zhuān)為抗硫化內(nèi)存模塊設(shè)計(jì)遠(yuǎn)超過(guò)一般業(yè)界采用 3µ標(biāo)準(zhǔn)的10倍 - 厚度高達(dá)30µ的金手指(Gold finger)，可靠度表現(xiàn)再升級(jí)，為高污染環(huán)境的工業(yè)控制系統(tǒng)、汽車(chē)電子、醫(yī)療、國(guó)防、網(wǎng)通、戶外基地臺(tái)，甚至采礦控制系統(tǒng)等設(shè)備，帶來(lái)強(qiáng)固的技術(shù)與多重防護(hù)機(jī)能，是在嚴(yán)峻環(huán)境下運(yùn)行的工業(yè)用系統(tǒng)之最佳解決方案。

宇瞻科技DDR4抗硫化系列內(nèi)存規(guī)格: